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混懸劑膠體磨是用于混懸劑制備的專用細化設備,核心通過高速旋轉的定轉子產生剪切、研磨力,將不溶性固體顆粒粉碎并均勻分散于液體中。它能將顆粒處理至微米級,減少沉降,提升混懸劑穩(wěn)定性,適配高粘度物料。廣泛用于醫(yī)藥、農藥領域,如制備口服混懸液、農藥懸浮劑,保障產品均一性與藥效。
產品型號:GMD2000
廠商性質:生產廠家
更新時間:2025-10-24
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混懸劑膠體磨
該懸浮液工藝要點在于使用的膠體磨的研磨性能,普通膠體磨轉速3000rpm,研磨出來的懸浮液顆粒較粗,靜置一段時間容易產生絮凝,影響藥效和使用,極大限制了新型阿莫西林混懸劑的推廣,上海依肯高剪切膠體磨GM2000系列轉速高達9000rpm,是專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。GM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 經過GM2000膠體磨研磨后的混懸液固體顆粒粒徑80%小于10UM,分布范圍極窄。

SID膠體磨與國內膠體磨的性能比較:
一、轉速和剪切速率:
SID膠體磨,可選擇德國機械密封,轉速可以達到15000轉
F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
普通膠體磨,可選擇機械密封一般3000轉,大約在14293-215440 S-1
通過轉速比較可知,這是乳粉碎研磨的重要因素,相當于前者是后者的2-3倍
二、膠體磨頭和間距:
SID膠體磨,可以選擇六種不同的模塊頭,實現(xiàn)多種功能,如三級乳化模塊,超高速模塊,GM膠體模塊,GM膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊。
間距可調,可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工
普通膠體磨,只有一種模塊頭,粒徑細度有限,100微米以下較困難,重復性差
三、機械密封:
SID膠體磨,雙機械密封,易于清洗,將泄漏降至zui低,可24小時不停運轉
普通膠體磨,單機械密封或軸封,泄漏故障率高,產品泄漏進入馬達,造成馬達燒毀
四、清洗:
SID膠體磨,立式,皮帶驅動,易于維護,可有效保護馬達及齒輪箱,防止損壞,符合流體流動原理,具有CIP/SIP在線清洗,在線殺菌功能,無需拆卸,機器設計無si角,立式結構符合流體原理,清洗更簡便
普通膠體磨,臥式或立式(馬達一體式),軸承部分受力較大,易于損壞,維護保養(yǎng)復雜,
通常情況,需要拆卸機器進行清洗
GM2000系列醫(yī)藥的特點:
①定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。
②齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結構式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

高剪切膠體磨主要用途:高剪切膠體磨適用于制藥、食品、化工及其它行業(yè)的濕物料超微粉碎,能起到各種半濕體及乳狀液物質德粉碎、乳化、均質和混合,主要技術指標已達到國外同類產品的ding尖。
混懸劑膠體磨設備參數表:
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||

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